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      產品中心

      Centrotherm產品——真空焊接爐

      真空焊接爐 VLO6/VLO12
      Centrotherm VLO 6 真空焊接爐是為先進封裝和功率半導體領域應用而設計的,適用于小批量生產和的實驗室研發的要求。
      可以完成快速加熱和冷卻。
      真空焊接爐 VLO20
      centrotherm VLO 20 真空焊接爐滿足高要求研發部門的同時,也滿足通過真空焊接技術實現無空洞焊接的小批量生產單位
      真空焊接爐 VLO180/VLO300
      centrotherm VLO180或VLO300真空焊接系統理想應用于大批量各種材料生產,溫度最高可達到750°C。整合的加熱和冷卻可以單獨控制。 。
      真空焊接爐 VLO HP
      VLO HP是centrotherm系列唯一的一款高壓系統,最大腔體壓力可達3bar。在焊接工藝中過壓系統具有正向壓力效果以減小空洞,像所有其他VLO系列一樣提供完全成熟的功能。

      Centrotherm——擴散爐與LPCVD

      E1200
      Centrotherm E1200小批量實驗室系統支持多種工藝能力,需要小批量生產和高性能用戶在較小占地面積
      E1550
      Centrotherm E1550 最優化系統支持多種工藝能力,需要中等生產能力和在一定尺寸安全上的高工藝性能的用戶,是可靠易于維修的臥式爐管平臺。
      E2000
      Centrotherm E2000大批量系統支持多種工藝能力,需要最高生產能力,高工藝性能的用戶并且提供原尺寸批量生產所有特征,是易于維修,安全可靠的臥式爐管平臺。
      Verticoo 200 垂直擴散爐
      Centrotherm Verticoo 200批量生產立式爐由單根爐管,雙舟上料機構以及高效全自動圓片傳遞機械手組成。

      Centrotherm——碳化硅高溫爐

      Activator 150 退火爐
      Centrotherm Activator150 高溫爐設計用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm獨特工藝爐管和加熱系統設計允許工藝溫度達到1850℃.
      Oxidator 150 氧化爐
      Oxidator 150 經過專業的研發,能夠滿足SIC圓片的高溫氧化工藝;同時亦可用于常規的硅圓片的氧化。Oxidator 150提供帶有氫氧合成系統的濕氧工藝。

      Centrotherm——DBC專用燒結爐

      DBC專用燒結爐
      設備具有以下專門針對高質量DCB生產的優勢特點:非常均勻的溫度均勻性、氧濃度的測量和控制系統、不產生顆粒灰塵的傳送系統

      Centrotherm——尾氣處理

      CT-BW 2009 燃燒水洗系統
      CT-BW 2009系列消除廢氣點系統作為一種高性能系統應用于光伏、半導體 以及其它相關行業的CVD和刻蝕等領域。
      CT-W 濕法尾氣處理
      濕法尾氣處理在不同的CVD和蝕刻工藝廢氣排放處理方面非常有效,Centrotherm濕法尾氣處理較常見的尾氣處理設備有很大的優勢:CT-W的特色是可以減少廢氣中99%的灰塵顆粒,吸附灰塵顆粒,并排出廢水。
      CT-D 干燥吸附器
      Centrotherm CT-D干燥吸附器為半導體、太陽能以及相關產業提供一種安全、高效和可靠的定點吸附解決方案。

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